鋁合金壓鑄廠中鋁堿性電解拋光工藝

 鋁合金壓鑄廠對堿性拋光液體系進行了研究，比較了緩蝕劑和粘度劑對拋光效果的影響，成功獲得了拋光效果好的堿性溶液體系，并首次獲得了能降低操作溫度，延長溶液使用壽命，提高拋光效果的添加劑。實驗結果表明，在NaOH溶液中加入適當?shù)奶砑觿┛梢援a(chǎn)生良好的拋光效果。 探索性實驗還發(fā)現(xiàn)，在某些條件下，鋁經(jīng)葡萄糖NaOH溶液直流恒壓電解拋光后，表面反射率可達90%，但實驗中仍存在不穩(wěn)定因素，有待進一步研究。

GB/T1497-1988鋁及鋁合金環(huán)境友好化學拋光

我們鋁合金壓鑄廠決定開發(fā)一種基于磷酸一硫酸的環(huán)保化學拋光技術，實現(xiàn)NOx的零排放，并克服過去類似技術的質量缺陷。"新技術的關鍵是在堿液中加入一些具有特殊效果的化合物來取代硝酸。因此，有必要對三酸鋁的化學拋光過程進行分析，特別是研究硝酸的作用。硝酸在鋁化學拋光中的主要作用是抑制點腐蝕，提高拋光白度。結合純磷酸-硫酸化學拋光試驗，認為在磷酸-硫酸中添加特殊物質應能抑制點腐蝕，減緩整體腐蝕，同時必須具有良好的平整性和良好的效果。

GB/T1497-1988鋁及其合金的電化學表面強化處理

討論了中性體中鋁及其合金陽極氧化沉積形成陶瓷非晶復合轉化膜的工藝，性能，形貌，組成和結構。結果表明，在Na_2WO_4中性混合體系中，成膜促進劑濃度為2。8 g/l，峰值電流密度為6/12 A/dm~2，我們鋁合金壓鑄廠通過弱攪拌可獲得光澤良好的灰色系無機非金屬薄膜，可用于控制成膜促進劑濃度，復合合成膜濃度，Na2WO4濃度和6:12 A/dm~（2）的峰值電流密度5×3.0g/l，復合合成膜劑濃度為1.5～3.0g/l，Na2WO4濃度為0.5～0。 膜厚5～10微米，顯微硬度300×540HV，耐蝕性優(yōu)良。 中性體系對鋁合金有很好的適應性，防銹鋁，鍛造鋁等系列鋁合金都能形成良好的薄膜。